西电21秋专用集成电路设计模拟题五答案

青青

（综合大作业）
简答题：
一、某公司研发新品ASIC流片失败，通过使用反向方法对芯片进行检查，发现版图绘制出现错误，出错部位的版图在下面已经给出（已知此ASIC采用标准N-well CMOS工艺流程）。

（使用反向方法找到版图中出错部位的局部照片）
任务：
（1）请在试题上直接标出n_well、 p_select、 n_select、 contact、 metal、 poly、active这7个层次。
答案：
解析：根据N-well CMOS工艺流程画出剖面图，进而推导出各层的具体位置
（2）回答在这部分版图中发生了什么错误？并直接在试题上修改版图中的错误。
答案：PMOS管的漏端没有输出。

解析：这是典型的错误之一，常见于初学者。
（3）请推测本次ASIC流片失败可能给公司和个人带来的影响？
答案：公司蒙受巨大损失，个人被公司解雇。
解析：ASIC设计是非常精细的，设计ASIC需要强烈的责任心，不允许有一点儿错误。
（4）如何确认流片失败责任？
答案：通过反向设计找到出错位置，然后检查设计流程，找到责任人。
解析：ASIC设计是一个系统工程，完备的设计流程是设计成功的前提。
（5）如何避免此类错误发生？
答案：使用软件进行自动差错和人工差错相结合的方法，反复核对检查。
解析：人和机器都存在系统误差，无法避免，只能通过多次交差核对将这种误差的影响降到最低。

二、专用集成电路设计的思想应用领域非常的广泛，请具体应用这个思想来分析：“盖茨管理之下”和“盖茨退休之后”的微软公司的发展变化。（500字）
答案要点：面向对象设计是专用集成电路设计的精髓。微软公司的变化源于企业掌门人对未来的认识和见解，想不到的事情做不到。
解析：理论联系实际极为重要，学好理论知识之后，就应该开始着手实践了。